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氦质谱检漏仪,EBARA真空泵,普发检漏仪,普发真空泵,inficon,压力控制器
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产品简单介绍
质谱分析仪
Micro Vision2 产品的技术是基于MKS残余气体分析质谱传感头和气体监控系统的核心技术,利用*先进的射频电路模块和数据采集电路??椋哂?*的性能,为要求*严格的应用所需,双CPU提供了高稳定的运行,快速和宽范围的动态扫描,使得工艺偏差和气体成分改变的监测变得很容易及**的通讯功能。灵活的输入输出性能,易与机台和其他传感器连接。质量数范围:1-300可选,双检测配置。 eVision 2 基于以太网的低成本的残余气体分析仪。利用Web浏览器或通过EasyView软件方便地操作系统。质量数范围:1-200可选,双检测器配置可选。
MASS-FLO系列金属密封质量流量控制器
MASS-FLO系列金属密封质量流量控制器
ENI射频电源阻抗匹配器
ENI射频电源阻抗匹配器
臭氧发生器
SEMOZON 臭氧发生器以及集成系统 LIQUOZON Smart臭氧水循环系统
反应气体发生器
ASTRON系列远程等离子体电源
MKS 质量流量计
MKS 质量流量计是采用感热式测量,通过分体分子带走的分子质量多少从而来测量流量,因为是用感热式测量,所以不会因为气体温度、压力的变化从而影响到测量的结果 。
DELTA //流量比例控制器
DELTA //流量比例控制器
Tru-Flo质量流量检验器
Tru-Flo质量流量检验器
以压力为基础的流量控制器
以压力为基础的流量控制器
MASS-FLO 系列橡胶密封质量流量控制器
MASS-FLO系列橡胶密封质量流量控制器
MF1系列数字质量流量控制器
通用数字质量流量控制器。
General系列数字质量流量控制器
通用数字质量流量控制器。 精度为设定值的正负1%,响应速度快于500毫秒,不同气体以及量程间自由切换。 Ethernet用户通讯口方便地用于设置和诊断。各种模拟和数字(RS-485,DeviceNet,Profibus)通讯接口可选。
金属密封数字质量流量控制器
新一代多气体/多量程数字质量流量控制器。 实时高精度流量控制是基于先进的数字算法技术,提供精度为设定值的正负1%,相应速度快于500毫秒,不同气体及量程间自由切换的优异功能。 Ethernet用户通讯口方便地用于设置和诊断。各种模拟和数字(RS-485,DeviceNet,Modbus/TCP)通讯接口可选。 ALTA 系列金属密封数字质量流量控制器。精度为设定值的正负1%,相应速度快于1秒,不同气体及量程间自由切换。各种模拟和数字(Profibus,DeviceNet)通讯接口可选。
MKS电源-直流/脉冲功率电源
ENI直流/脉冲电源主要应用于半导体,光电器件,磁盘,平板显示器等工业中的镀膜工艺。
MKS电源-射频功率电源
ENI提供高可靠性的固态电源,其频率从2MHz到60MHz,功率从3百瓦到13千瓦,还可选自动频率跳鞋,广泛应用于Etch,CVD和PVD等工艺。
MKS电源-等离子体电源
ASTeX 远程等离子体电源适用于氧气,氮气,氢气,水汽等气体,广泛应用于CVD,ETCH,去胶等晶圆工艺。
各种真空计
各种真空计
压力传感器/质量流量控制器电源和显示仪
压力传感器/质量流量控制器电源和显示仪
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